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MacuSpec THF 100鍍銅填通孔工藝

發(fā)布時(shí)間:2020-4-15 18:53    發(fā)布者:eechina
關(guān)鍵詞: MacuSpec , THF , 鍍銅 , 填通孔
優(yōu)異的單步驟填通孔工藝



MacuSpec THF 100 第一個(gè)能單步驟填通孔工藝,可消除空洞,減少周期時(shí)間并提供連接的金屬銅通孔,而無(wú)需進(jìn)行后續(xù)減銅步驟。無(wú)論您的設(shè)計(jì)目標(biāo)是包括改善的散熱性能,更好的結(jié)構(gòu)完整性還是節(jié)省空間的改進(jìn),MacuSpec THF 100都是通孔填充的解決方案,可在高電鍍速度下實(shí)現(xiàn)填實(shí)心銅通孔,而能減少浪費(fèi)。



MacuSpec THF 100的先進(jìn)技術(shù)可控制表面長(zhǎng)銅,并在很短的時(shí)間內(nèi)對(duì)各種板厚和孔徑填充通孔,并且減少直流電鍍的銅金屬浪費(fèi)。 與其多個(gè)電鍍銅步驟的高科技產(chǎn)品相比,MacuSpec THF 100能夠在一個(gè)步驟中完成填充,從而減少了要維護(hù)的電鍍槽數(shù)量。 這種無(wú)空洞的純銅填通孔工藝, 會(huì)增強(qiáng)各種先進(jìn)PCB設(shè)計(jì)的結(jié)構(gòu)性能和可靠性。

主要特性?xún)?yōu)點(diǎn)

•與直流電鍍銅工藝相比,優(yōu)異的無(wú)空洞鍍銅填通孔工藝
•較薄的面鍍,以便后加層工藝流程
•用于HDI應(yīng)用的最小化表面銅厚
•改善了熱導(dǎo)率,適用于散熱量管理應(yīng)用
•能夠填充激光和機(jī)械鉆通孔
•大幅減少電鍍時(shí)間
•消除通孔塞孔和減銅工藝
•提高設(shè)計(jì)的自由度

熱管理和設(shè)計(jì)自由



MacuSpec THF 100減少了電鍍工藝步驟,允許IC載板制造商提高封裝可靠性,散熱效率和電路密度。 由于其電鍍銅的無(wú)洞孔和平坦的表面輪廓,THF 100尤其適用于先進(jìn) HDI 設(shè)計(jì)的出色解決方案。

比傳統(tǒng)直流電鍍更快,浪費(fèi)更少       



以更少步驟填固體金屬銅通孔       




MacuSpec THF 100:更少的藥水維護(hù)需求和消除金屬界面,從而提高可靠性。

聯(lián)系人資料:
Steven Tam
Asia Product Manager
Steven.Tam@MacDermidAlpha.com
      
Ian Stewart
Senior Business Manager (Strategic Accounts)
Ian.stewart@MacDermidAlpha.com



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