色偷偷偷久久伊人大杳蕉,色爽交视频免费观看,欧美扒开腿做爽爽爽a片,欧美孕交alscan巨交xxx,日日碰狠狠躁久久躁蜜桃

x
x

NVIDIA、ASML、TSMC與Synopsys為新一代芯片制造奠定基礎(chǔ)

發(fā)布時間:2023-3-22 17:02    發(fā)布者:eechina
在行業(yè)接近物理極限之際,半導(dǎo)體行業(yè)領(lǐng)導(dǎo)者開始采用NVIDIA在計算光刻技術(shù)領(lǐng)域的突破成果

NVIDIA宣布推出一項(xiàng)將加速計算引入計算光刻技術(shù)領(lǐng)域的突破性成果。在當(dāng)前生產(chǎn)工藝接近物理極限的情況下,這項(xiàng)突破使ASML、TSMC和Synopsys等半導(dǎo)體行業(yè)領(lǐng)導(dǎo)者能夠加快新一代芯片的設(shè)計和制造。

全球領(lǐng)先的代工廠TSMC,以及電子設(shè)計自動化領(lǐng)域的領(lǐng)導(dǎo)者Synopsys正在將全新的NVIDIA cuLitho計算光刻技術(shù)軟件庫整合到最新一代NVIDIA Hopper™架構(gòu)GPU的軟件、制造工藝和系統(tǒng)中。設(shè)備制造商 ASML正在GPU和cuLitho方面與NVIDIA展開合作,并正在計劃在其所有計算光刻軟件產(chǎn)品中加入對GPU的支持。

這一進(jìn)展將使得未來的芯片能夠擁有比目前更小的晶體管和導(dǎo)線,同時加快產(chǎn)品上市時間,大幅提高為驅(qū)動制造流程而全天候運(yùn)行的大型數(shù)據(jù)中心的能效。

NVIDIA創(chuàng)始人兼首席執(zhí)行官黃仁勛表示:“芯片行業(yè)是全球幾乎所有其他行業(yè)的基礎(chǔ)。光刻技術(shù)已臨近物理極限,NVIDIA cuLitho的推出以及我們與 TSMC、ASML 和 Synopsys的合作,使晶圓廠能夠提高產(chǎn)量、減少碳足跡并為2納米及更高工藝奠定基礎(chǔ)!

cuLitho在GPU上運(yùn)行,其性能比當(dāng)前光刻技術(shù)工藝(通常指在硅晶圓上繪制電路)提高了40倍,能夠?yàn)槟壳懊磕晗臄?shù)百億CPU小時的大規(guī)模計算工作負(fù)載提供加速。

憑借這項(xiàng)技術(shù),500個NVIDIA DGX H100系統(tǒng)即可完成原本需要4萬個CPU系統(tǒng)才能完成的工作,它們能夠同時運(yùn)行計算光刻工藝的所有流程,助力降低耗電以及對環(huán)境的影響。

在短期內(nèi),使用cuLitho的晶圓廠每天的光掩模(芯片設(shè)計模板)產(chǎn)量可增加3-5倍,而耗電量可以比當(dāng)前配置降低9倍。原本需要兩周時間才能完成的光掩,F(xiàn)在可以在一夜之間完成。

從長遠(yuǎn)來看,cuLitho將帶來更好的設(shè)計規(guī)則、更高的密度和產(chǎn)量以及AI驅(qū)動的光刻技術(shù)。

行業(yè)領(lǐng)導(dǎo)者的支持

NVIDIA正在與行業(yè)領(lǐng)導(dǎo)者們共同推動這項(xiàng)新技術(shù)的迅速普及。

TSMC首席執(zhí)行官魏哲家表示:“cuLitho 團(tuán)隊通過將昂貴的操作轉(zhuǎn)移到 GPU,在加速計算光刻方面取得了令人欽佩的進(jìn)展。這項(xiàng)成果為TSMC在芯片制造中更大范圍地部署反演光刻技術(shù)、深度學(xué)習(xí)等光刻解決方案提供了新的可能性,為半導(dǎo)體行業(yè)規(guī)模的持續(xù)擴(kuò)大做出了重要貢獻(xiàn)!

ASML首席執(zhí)行官Peter Wennink表示:“我們計劃在所有計算光刻軟件產(chǎn)品中加入對GPU的支持。我們與NVIDIA在GPU和cuLitho上的合作預(yù)計會給計算光刻技術(shù),乃至整個半導(dǎo)體行業(yè)的發(fā)展帶來巨大的益處。這一點(diǎn)在High-NA EUV光刻時代將變得尤為明顯。”

Synopsys董事長兼首席執(zhí)行官Aart de Geus表示:“計算光刻技術(shù),尤其是光學(xué)鄰近修正(OPC)正在推動先進(jìn)芯片計算工作負(fù)載的邊界。通過與NVIDIA合作,Synopsys OPC軟件將在cuLitho平臺上運(yùn)行,可將原本需要數(shù)周才能完成的工作大幅縮短到數(shù)天。這將繼續(xù)推動該行業(yè)取得驚人的進(jìn)步!

推動半導(dǎo)體行業(yè)的發(fā)展

近年來,由于增長的新節(jié)點(diǎn)晶體管數(shù)量以及更加嚴(yán)格的精度要求,半導(dǎo)體制造中的超大型工作負(fù)載所需的計算時間成本已經(jīng)超過了摩爾定律。未來的節(jié)點(diǎn)需要更加詳細(xì)的計算,但不是所有計算都能適應(yīng)當(dāng)前平臺所提供的可用計算帶寬,這會減緩半導(dǎo)體行業(yè)的創(chuàng)新步伐。

一般情況下,晶圓廠在改變工藝時需要修改OPC,因此會遇到瓶頸。cuLitho不僅可以幫助突破這些瓶頸,還可以提供曲線式光掩模、High-NA EUV 光刻、亞原子光刻膠建模等新技術(shù)節(jié)點(diǎn)所需的新型解決方案和創(chuàng)新技術(shù)。

本文地址:http://www.54549.cn/thread-815108-1-1.html     【打印本頁】

本站部分文章為轉(zhuǎn)載或網(wǎng)友發(fā)布,目的在于傳遞和分享信息,并不代表本網(wǎng)贊同其觀點(diǎn)和對其真實(shí)性負(fù)責(zé);文章版權(quán)歸原作者及原出處所有,如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)和其它問題,我們將根據(jù)著作權(quán)人的要求,第一時間更正或刪除。
您需要登錄后才可以發(fā)表評論 登錄 | 立即注冊

關(guān)于我們  -  服務(wù)條款  -  使用指南  -  站點(diǎn)地圖  -  友情鏈接  -  聯(lián)系我們
電子工程網(wǎng) © 版權(quán)所有   京ICP備16069177號 | 京公網(wǎng)安備11010502021702
快速回復(fù) 返回頂部 返回列表