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新加坡啟動(dòng)全球首個(gè)工業(yè)級(jí)200毫米碳化硅開放研發(fā)線,加速半導(dǎo)體材料革命

發(fā)布時(shí)間:2025-5-27 10:30    發(fā)布者:eechina
關(guān)鍵詞: 新加坡 , 碳化硅
新加坡科技研究局(A*STAR)日前宣布,其微電子研究所(IME)正式啟用全球首條工業(yè)級(jí)200毫米(8英寸)碳化硅(SiC)開放研發(fā)生產(chǎn)線,標(biāo)志著半導(dǎo)體材料技術(shù)邁入規(guī);瘧(yīng)用新階段。該平臺(tái)旨在通過(guò)開放合作模式,加速碳化硅在電動(dòng)汽車、5G通信及工業(yè)電源等領(lǐng)域的商業(yè)化進(jìn)程,鞏固新加坡在全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈中的創(chuàng)新樞紐地位。

技術(shù)突破:從實(shí)驗(yàn)室到工業(yè)化的跨越

碳化硅作為第三代半導(dǎo)體材料的核心代表,以其高擊穿電場(chǎng)、高導(dǎo)熱性和低導(dǎo)通損耗特性,成為電動(dòng)汽車逆變器、充電樁及5G基站功率器件的首選材料。然而,受限于150毫米(6英寸)晶圓產(chǎn)能瓶頸及材料缺陷控制難題,行業(yè)長(zhǎng)期面臨良率低、成本高的挑戰(zhàn)。A*STAR此次推出的200毫米研發(fā)線,通過(guò)三大技術(shù)突破實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)可行性:

晶體生長(zhǎng)優(yōu)化:采用改進(jìn)的物理氣相傳輸法(PVT),將200毫米晶錠的位錯(cuò)密度(DD)從傳統(tǒng)工藝的11,256 cm⁻²降至3,885 cm⁻²,接近商用150毫米晶圓水平,微管密度低于0.5 cm⁻²,滿足工業(yè)級(jí)器件可靠性要求。
高精度加工工藝:集成多線鋸切片、化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)及外延層沉積技術(shù),實(shí)現(xiàn)晶圓厚度均勻性±1μm、電阻率波動(dòng)<3%,兼容現(xiàn)有8英寸半導(dǎo)體設(shè)備,降低企業(yè)轉(zhuǎn)型成本。
缺陷檢測(cè)與補(bǔ)償:引入非接觸式映射系統(tǒng)(LEI 1510)及熔融KOH選擇性蝕刻技術(shù),實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)晶圓內(nèi)缺陷分布,并通過(guò)工藝參數(shù)動(dòng)態(tài)調(diào)整提升良率,目前已實(shí)現(xiàn)單晶襯底交付良率超90%。

開放合作:構(gòu)建產(chǎn)業(yè)生態(tài)共同體

A*STAR將該研發(fā)線定位為“半導(dǎo)體創(chuàng)新加速器”,通過(guò)開放設(shè)備、工藝及數(shù)據(jù)資源,降低中小企業(yè)研發(fā)門檻。其核心合作模式包括:

技術(shù)共享平臺(tái):向本地企業(yè)及國(guó)際機(jī)構(gòu)提供200毫米晶圓加工服務(wù),涵蓋晶錠生長(zhǎng)、外延沉積及器件級(jí)測(cè)試,支持企業(yè)快速驗(yàn)證碳化硅芯片設(shè)計(jì)。
產(chǎn)學(xué)研協(xié)同網(wǎng)絡(luò):與意法半導(dǎo)體(STM)、GlobalFoundries及新加坡南洋理工大學(xué)(NTU)合作,建立從材料到器件的完整技術(shù)鏈,推動(dòng)壓電MEMS、毫米波通信等前沿技術(shù)交叉融合。
跨境研發(fā)合作:與烏茲別克斯坦、印度等國(guó)科研機(jī)構(gòu)簽署協(xié)議,共享碳化硅晶體生長(zhǎng)數(shù)據(jù)庫(kù),優(yōu)化高溫高壓環(huán)境下的工藝穩(wěn)定性,提升供應(yīng)鏈韌性。

市場(chǎng)前景:賦能綠色能源與AI算力革命

據(jù)行業(yè)分析,200毫米碳化硅晶圓的應(yīng)用將使單片晶圓器件數(shù)量增加78%,生產(chǎn)效率提升30%,成本降低25%。A*STAR的研發(fā)線已吸引多家企業(yè)參與:

電動(dòng)汽車領(lǐng)域:本地初創(chuàng)公司W(wǎng)aferLead基于該平臺(tái)開發(fā)出高功率密度SiC MOSFET,應(yīng)用于充電樁及OBC(車載充電器),充電效率提升40%,充電時(shí)間縮短至15分鐘以內(nèi)。
5G通信系統(tǒng):與意法半導(dǎo)體合作研發(fā)的碳化硅射頻器件,支持毫米波頻段高功率傳輸,基站能效比傳統(tǒng)硅器件提升50%,助力6G網(wǎng)絡(luò)部署。
工業(yè)電源:開發(fā)的高壓平面柵SiC MOSFET(3300V)已通過(guò)新加坡電力局認(rèn)證,應(yīng)用于數(shù)據(jù)中心UPS系統(tǒng),轉(zhuǎn)換效率達(dá)99.2%,年節(jié)電量超10萬(wàn)度。

政策支持:強(qiáng)化新加坡半導(dǎo)體全球競(jìng)爭(zhēng)力

新加坡政府將碳化硅研發(fā)納入“國(guó)家半導(dǎo)體戰(zhàn)略”,未來(lái)三年投入2億新元(約合1.5億美元)支持A*STAR生態(tài)建設(shè)。貿(mào)工部第二部長(zhǎng)陳詩(shī)龍表示:“該研發(fā)線不僅是技術(shù)突破,更是產(chǎn)業(yè)協(xié)同的范式——通過(guò)開放資源,中小企業(yè)可共享大企業(yè)研發(fā)成果,快速響應(yīng)市場(chǎng)需求。”

目前,A*STAR已與全球27家企業(yè)簽署合作協(xié)議,涵蓋材料供應(yīng)商、芯片設(shè)計(jì)公司及終端設(shè)備制造商。其200毫米碳化硅研發(fā)線計(jì)劃于2026年向全球開放服務(wù),預(yù)計(jì)每年培養(yǎng)500名半導(dǎo)體工程師,推動(dòng)新加坡半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)人才庫(kù)擴(kuò)容。

關(guān)于新加坡科技研究局(A*STAR)
A*STAR是直屬于新加坡貿(mào)工部的政府法定機(jī)構(gòu),通過(guò)整合學(xué)術(shù)界與工業(yè)界資源,推動(dòng)科技創(chuàng)新與成果轉(zhuǎn)化。其微電子研究所(IME)專注于半導(dǎo)體材料、封裝及異構(gòu)集成技術(shù)研發(fā),擁有全球領(lǐng)先的200毫米晶圓中試線及300毫米硅晶圓產(chǎn)能。
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