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洞察先機(jī),破解先進(jìn)制程最新挑戰(zhàn)!7/23 西門(mén)子線上研討會(huì)

發(fā)布時(shí)間:2021-7-6 11:42    發(fā)布者:eechina
關(guān)鍵詞: 制程 , 西門(mén)子 , EDA
隨著AI時(shí)代的到來(lái),市場(chǎng)上對(duì)大數(shù)據(jù)處理速度的需求越來(lái)越高。眾所周知,工藝制程的進(jìn)步是實(shí)現(xiàn)高性能計(jì)算最為有效的途徑之一。因此,市場(chǎng)對(duì)先進(jìn)制程的需求也會(huì)越來(lái)越旺盛。根據(jù)IC Insights發(fā)布的《2020-2024年全球晶圓產(chǎn)能》報(bào)告顯示,從2024年開(kāi)始,先進(jìn)工藝的IC產(chǎn)能預(yù)計(jì)將持續(xù)增長(zhǎng)。

但是,我們都知道,隨著晶體管的微縮,先進(jìn)制程繼續(xù)向前發(fā)展變得愈發(fā)困難和愈發(fā)昂貴。由此,也引發(fā)了行業(yè)變動(dòng)。到目前為止,僅少數(shù)企業(yè)還在堅(jiān)持先進(jìn)制程的研發(fā)。

在這種情況之下,如何破解先進(jìn)制程最新挑戰(zhàn)成為了業(yè)界關(guān)注的焦點(diǎn)。

7月23日,西門(mén)子EDA將與您一起探討洞察先機(jī),破解先進(jìn)制程最新挑戰(zhàn)。



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