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來源：參考消息網(wǎng) 據(jù)日本《朝日新聞》10月19日報道，日本佳能公司歷時10年開發(fā)出的新技術(shù)產(chǎn)品——可用于半導(dǎo)體制造的一種光刻設(shè)備——已經(jīng)正式開售。日本制造企業(yè)曾經(jīng)壟斷光刻機市場，但后來被荷蘭的阿斯麥(ASML)碾壓。上述新設(shè)備能否動搖阿斯麥的霸主地位將備受關(guān)注。 佳能公司18日在橫濱市舉行了技術(shù)展示會，展示了新的“納米壓印”光刻設(shè)備。這是一種在半導(dǎo)體晶圓上繪制精密電路的設(shè)備。 這一新技術(shù)運用了佳能公司擅長的噴墨打印機和照相機技術(shù)，就像打印機滴墨一樣，將極少的樹脂滴到半導(dǎo)體晶圓上。類似蓋印章的原理，將刻有凹凸電路圖案的掩模壓印到晶圓上制成電路。據(jù)悉在這一過程中，晶圓和掩模的位置相差不到幾納米。 現(xiàn)在占主流的光刻設(shè)備采用的是通過強光照射將電路蝕刻在晶圓上的方式。為了使強光變細，需要用到很多透鏡和反射鏡，還必須經(jīng)過多次反復(fù)照射。這種方式不僅制造成本高，而且耗電量大，對環(huán)境的負荷也是一個課題。 “納米壓印”設(shè)備由于不使用強光，耗電量僅為光刻設(shè)備的十分之一，電路可一次就能壓印制成，因此制造成本也很低。這種設(shè)備本身也比其他公司高達幾百億日元的設(shè)備更便宜。 半導(dǎo)體的電路線寬越細，性能越高。用于高性能智能手機和人工智能的尖端產(chǎn)品線寬已細至2納米�！凹{米壓印”方式可以做到線寬5納米的產(chǎn)品，甚至挑戰(zhàn)最先進的2納米產(chǎn)品。 光刻設(shè)備市場在20至30年前幾乎被佳能和尼康兩家公司壟斷。但是，其后它們在技術(shù)開發(fā)上落后于阿斯麥，現(xiàn)在該公司擁有90%以上的市場占有率。 “納米壓印”是佳能公司為了對抗阿斯麥，從10年前開始就進行技術(shù)開發(fā)的設(shè)備。佳能公司董事長兼社長御手洗富士夫表示，要“成為游戲規(guī)則改變者”，意欲扭轉(zhuǎn)局面。 |
