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美國(guó)擬斥資8.25億美元建設(shè)紐約州EUV光刻旗艦研發(fā)站點(diǎn)

發(fā)布時(shí)間:2024-11-1 15:22    發(fā)布者:eechina
關(guān)鍵詞: 美國(guó) , EUV , 光刻
近日,美國(guó)商務(wù)部宣布了一項(xiàng)重大投資計(jì)劃,擬斥資8.25億美元(約合人民幣58.75億元)支持紐約州EUV光刻旗艦研發(fā)站點(diǎn)的建設(shè)。

據(jù)悉,該研發(fā)站點(diǎn)將命名為“EUV加速器”,并選址于紐約州立大學(xué)奧爾巴尼納米技術(shù)中心。該站點(diǎn)將重點(diǎn)推進(jìn)最先進(jìn)的EUV(極紫外)光刻技術(shù)及相關(guān)研發(fā)工作,預(yù)計(jì)將于2025年開始運(yùn)營(yíng)。在運(yùn)營(yíng)初期,站點(diǎn)將引入0.33NA EUV光刻機(jī),并在次年引入更為先進(jìn)的High NA EUV光刻機(jī)。

美國(guó)商務(wù)部在聲明中表示,此次投資旨在加強(qiáng)美國(guó)在半導(dǎo)體技術(shù)研發(fā)領(lǐng)域的領(lǐng)先地位,確保國(guó)家安全和經(jīng)濟(jì)競(jìng)爭(zhēng)力。通過建設(shè)“EUV加速器”研發(fā)站點(diǎn),美國(guó)將能夠吸引更多的產(chǎn)業(yè)界、學(xué)術(shù)界和政府合作伙伴,共同推動(dòng)半導(dǎo)體技術(shù)的創(chuàng)新與發(fā)展。

紐約州州長(zhǎng)對(duì)此表示熱烈歡迎和支持,認(rèn)為這一投資將為紐約州帶來顯著的經(jīng)濟(jì)效益和就業(yè)機(jī)會(huì)。他強(qiáng)調(diào),紐約州一直致力于打造全球領(lǐng)先的半導(dǎo)體技術(shù)研發(fā)和生產(chǎn)基地,此次投資將進(jìn)一步鞏固該州的領(lǐng)先地位,并推動(dòng)相關(guān)產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展。
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