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EUV光刻機(jī)耗能巨大 芯片制造商生產(chǎn)與節(jié)能減排難并重

發(fā)布時(shí)間:2022-8-26 15:54    發(fā)布者:eechina
關(guān)鍵詞: EUV , 光刻機(jī) , 節(jié)能減排
來源:集微網(wǎng)

據(jù)彭博社報(bào)道,ASML新一代EUV每臺(tái)耗電約1百萬瓦,三星、臺(tái)積電等芯片制造大廠能源消耗巨大;臺(tái)積電對(duì)化石燃料高度依賴,2025年耗能估占中國臺(tái)灣省的12.5%。

世界僅此一家的EUV公司ASML,旗下新一代的EUV光刻機(jī)耗資高達(dá)1.5億美元,包含10萬個(gè)部件和長達(dá)2公里的布線。EUV光刻機(jī)體現(xiàn)著更先進(jìn)芯片的制造過程正變得復(fù)雜和能源密集。ASML當(dāng)前每臺(tái)EUV的額定耗電量約為1百萬瓦,約為前幾代設(shè)備的10倍,但由于沒有替代品來制造最先進(jìn)的半導(dǎo)體,芯片行業(yè)可能成為減少全球碳排放的重要絆腳石。

臺(tái)積電為業(yè)界擁有最多EUV光刻機(jī)的公司,公司目前已有超過80臺(tái)EUV,新一代設(shè)備還在安裝中。預(yù)計(jì)到2025年,僅臺(tái)積電一家公司就將占全中國臺(tái)灣省整體能源消耗的12.5%,遠(yuǎn)高于2020年時(shí)的6%。

除臺(tái)積電外,另一儲(chǔ)存芯片制造大廠美光科技計(jì)劃在位于中國臺(tái)灣的工廠使用至少一臺(tái)EUV光刻機(jī)。據(jù)彭博分析師CharlesShum稱,在三年內(nèi),中國臺(tái)灣代工廠中四分之一的芯片制造將使用EUV光刻機(jī)。

對(duì)于芯片制造的能源消耗問題,環(huán)保組織綠色和平(Greenpeace)氣候能源項(xiàng)目主任鄭楚忻曾表示,缺電必然發(fā)生,其他行業(yè)將受其牽連。比利時(shí)微電子研究中心(Imec)Lars-AkeRagnarsson指出,在使用高耗能設(shè)備的芯片廠,再生能源變得緊急且必要。

彭博社提出,芯片制造對(duì)環(huán)境的影響將取決于用電來源。據(jù)悉,臺(tái)積電高度仰賴化石燃料。2016年,中國臺(tái)灣當(dāng)局制定目標(biāo),即到2025年實(shí)現(xiàn)20%的電力來自可再生能源,但其7月發(fā)布的最新能源評(píng)估顯示,截至2021年底,其電力只有6%來自可再生能源。

韓國芯片制造巨頭三星也面臨著類似的能源消耗問題。三星在韓國擁有六個(gè)半導(dǎo)體制造基地,2021年占其功耗的3%。為了爭取更多的客戶訂單來和臺(tái)積電競爭,三星正在擴(kuò)大對(duì)EUV的使用。該公司未公開說明擁有機(jī)器的數(shù)量。6月初,三星集團(tuán)負(fù)責(zé)人JayLee前往荷蘭與ASML達(dá)成新的交易。
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