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無(wú)需EUV光刻機(jī) 我國(guó)首條光子芯片產(chǎn)線明年建成:1000倍性能提升

發(fā)布時(shí)間:2022-10-18 15:20    發(fā)布者:eechina
關(guān)鍵詞: EUV , 光刻機(jī) , 光子芯片
來(lái)源:快科技

除了硅基芯片之外,光子芯片也是未來(lái)的一大重點(diǎn),其原理跟硅芯片不同,運(yùn)算速度可提升1000倍以上,而且不依賴先進(jìn)的光刻機(jī),比如EUV光刻機(jī),因此是各國(guó)爭(zhēng)相發(fā)展的新一代信息科技。

來(lái)自《北京日?qǐng)?bào)》的消息,記者從中科鑫通獲悉,國(guó)內(nèi)首條“多材料、跨尺寸”的光子芯片生產(chǎn)線已在籌備,預(yù)計(jì)將于2023年在京建成,可滿足通信、數(shù)據(jù)中心、激光雷達(dá)、微波光子、醫(yī)療檢測(cè)等領(lǐng)域需求,有望填補(bǔ)我國(guó)在光子芯片晶圓代工領(lǐng)域的空白。

據(jù)悉,光子芯片是光電子器件的核心組成部分,與集成電路芯片相比存在多處不同。例如:

從性能而言,光子芯片的計(jì)算速度較電子芯片快約1000倍,且功耗更低。

從材料而言,InP、GaAS等二代化合物半導(dǎo)體是光子芯片更為常用的材料,而集成電路一般采用硅片。

從制備而言,光子芯片的制備流程與集成電路芯片存在一定相似性,但側(cè)重點(diǎn)在于外延設(shè)計(jì)與制備環(huán)節(jié),而非光刻環(huán)節(jié)。

民生證券指出,這也決定了光子芯片行業(yè)中,IDM模式是主流,有別于標(biāo)準(zhǔn)化程度高、行業(yè)分工明確的集成電路芯片。

值得一提的是,相較于電子芯片,光子芯片對(duì)結(jié)構(gòu)的要求較低,一般是百納米級(jí),因此降低了對(duì)先進(jìn)工藝的依賴。中科鑫通總裁隋軍也表示,光子芯片使用我國(guó)已相對(duì)成熟的原材料及設(shè)備就能生產(chǎn),而不像電子芯片一樣,必須使用EUV等極高端光刻機(jī)。
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