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IBM、美光等將與紐約共建100億美元芯片園區(qū),引進(jìn)EUV光刻機

發(fā)布時間:2023-12-12 15:17    發(fā)布者:eechina
關(guān)鍵詞: IBM , 美光 , 紐約 , 芯片園區(qū) , 光刻機
來源:全球半導(dǎo)體觀察

12月11日,美國紐約州州長凱西·霍楚爾宣布,將聯(lián)合IBM、美光等公司投資100億美元,在紐約州立大學(xué)奧爾巴尼分校建設(shè)芯片產(chǎn)業(yè)園區(qū),并且還將利用州政府的資金購買ASML的High-NA(高數(shù)值孔徑)EUV光刻機。

據(jù)悉,負(fù)責(zé)監(jiān)督奧爾巴尼納米科技園的非營利性機構(gòu)“紐約制造”(NY Creates)將協(xié)調(diào)該研究設(shè)施的建設(shè);舫栟k公室稱,一旦設(shè)備安裝完畢,該項目及其合作伙伴將在那里開始下一代芯片的制造工作。

這一100億美元的芯片園區(qū)項目,參與者包括IBM、美光、應(yīng)用材料、東京電子等。

根據(jù)美國2022年確定的《芯片法案》,這一項目將有助于紐約爭取被確定為美國的芯片研究中心。《芯片法案》此前宣布,將為美國國家半導(dǎo)體技術(shù)中心(NSTC)撥款110億美元,以促進(jìn)芯片研發(fā)。

紐約州將投資10億美元購買ASML的High-NA EUV光刻機,預(yù)計2025年可以投產(chǎn);此外還將建造一座占地5萬平方英尺的芯片制造大樓,建設(shè)工程將耗時兩年左右。

據(jù)悉,紐約州是多家大型芯片工廠的所在地,其中包括格芯、安森美、Wolfspeed等。美光公司此前也計劃向錫拉丘茲附近的一家大型工廠投資高達(dá)1000億美元,希望通過《芯片法案》獲得資金。
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